中国最先进的光刻机是上海微电子的SSA600系列，采用193纳米光源，其分辨率达到了22纳米，可以用于制造22纳米及以上的芯片。此外，上海微电子还掌握了90nm制程工艺的光刻机技术，其光刻机设备在国内低端光刻机设备领域占据了近80%的市场份额。未来，上海微电子计划完成28nm工艺节点的浸润式光刻机的量产，这将标志着国产光刻机设备取得重大技术突破。